市場傳中國啟動國產DUV光刻機生產 料交付中芯華虹等主要晶片廠

市場消息引述科技媒體The Information報道指，中國已開始生產自主研發的深紫外光(DUV)光刻機。該設備被視為晶片製造的關鍵環節，而DUV光刻機市場長期以來一直由荷蘭供應商ASML主導。此舉標誌著中國在推動半導體設備國產化方面邁出重要一步。 據悉，國產DUV光刻機的初期產量預計將會受到限制，今年約可生產5部，並計劃於明年增至約20台。這些自主研發的設備預計將於今年內交付予中國領先的晶片製造商，其中包括在香港上市的中芯國際、華虹半導體以及長鑫存儲等。 分析認為，中國在DUV光刻機領域的突破，長遠而言可能對ASML在中國市場的主導地位構成一定挑戰，尤其是在全球半導體供應鏈面臨多元化趨勢以及各國積極推動晶片自給自足的背景下。然而，報道亦同時指出，現階段國產系統在性能及可靠性方面仍存在差距，在實現大規模商業量產前尚需進一步的測試及改進。因此，目前ASML的市場優勢及其在全球供應鏈中的核心地位依然穩固。 除了DUV光刻機的進展，據瞭解，中國亦正積極研發國產極紫外光(EUV)光刻機，但該項目目前仍處於原型機階段。投資者將持續關注中國在半導體設備自主化方面的進展及其對全球晶片產業格局的潛在影響。