ASML年內二度上調全年業績展望 擬大增極紫外光刻機產能應對強勁需求

荷蘭半導體設備巨擘ASML近日公佈，年內第二次向上修訂其年度業績展望，反映行業前景樂觀。受惠於客户需求持續強勁，集團最新預期全年銷售額將介乎430億至450億歐元，遠高於4月份預期的360億至400億歐元，亦顯著超越市場分析師平均預期的393億歐元。毛利率方面，預計將由原先估計的51%至53%，提升至54%至56%，盈利能力有所改善。 公司行政總裁Christophe Fouquet透露，為滿足2028年大量積壓的訂單，集團計劃大幅提升其極紫外光刻機（EUV）的產能。他指出，強勁的客户需求不僅促使公司增加資本支出，更加快了所有既定計劃的實施步伐。ASML表示，預計今年低數值孔徑（Low NA）EUV設備的產量將提升至約65台，並計劃於明年將產能再增加約30%。此外，公司正研究在2028年進一步增加30%產能的可能性。 作為全球唯一一家能夠生產精密極紫外光刻機的製造商，ASML在先進半導體製造領域扮演著不可或缺的角色。例如，全球半導體巨頭之一的英特爾已開始採用其最先進的設備進行晶片生產，這類新設備能提供更精確的圖案化，從而製造出性能更優越的先進晶片。 回顧第二財季業績，ASML的淨銷售額錄得93.3億歐元，超越市場普遍預期的88.5億歐元。同期盈利達到29億歐元，亦高於分析師預期的26億歐元，顯示其營運表現穩健。