英特爾採艾司摩爾高數值孔徑EUV技術生產Panther Lake芯片 艾司摩爾業績及展望俱佳

晶片巨擘英特爾近日決定，將採用荷蘭光刻機製造商艾司摩爾的下一代高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)光刻機，以生產其旗艦級Panther Lake筆記本電腦芯片。此舉不僅標誌著英特爾在先進製程技術上的突破，亦有助於該公司更有效地掌握這項尖端工具的使用。 市場消息指，自2024年開始進行實驗後，英特爾已着手運用艾司摩爾的高數值孔徑EUV光刻機，投入部分Panther Lake處理器的生產。高數值孔徑EUV技術是當前半導體產業最先進的光刻技術之一，對推動晶片線寬進一步縮小、提升電晶體密度至關重要，為製造更高效能的處理器奠定基礎。 受此消息帶動，加上艾司摩爾早前公佈的亮麗業績，市場對其前景普遍樂觀。艾司摩爾近期公佈的業務數據顯示，其銷售淨額按年增長21.2%，達到93.3億歐元，超出市場預期的88.5億歐元；而淨利潤則按年攀升27.4%至29.2億歐元，亦勝過預期的26.4億歐元。強勁的財務表現，印證了艾司摩爾在全球半導體設備市場的龍頭地位。 同時，艾司摩爾亦上調了其長期展望，預期2026年全年的淨銷售額將介乎430億歐元至450億歐元之間，毛利率則有望維持在54%至56%的高水平。該公司股價在消息公佈後一度急升7%，隨後稍作回落，現穩定於1651歐元水平，反映投資者對其未來增長潛力充滿信心。