中國科學家進展EUV光刻技術 努力突破芯片生產

市場消息指出，中國科研人員在全球半導體技術競賽中取得重要進展，目標在2025年初完成一台EUV光刻機原型機。該設備的研製依賴於對ASML所製造的極紫外光刻機的深入研究。 據瞭解，這項開發工作由一批曾在ASML工作的工程師團隊所領導，他們成功地實現了逆向工程，並試圖在晶片製造領域取得突破。目前，這台原型機已經能夠產生極紫外光，並且正在進行各項測試。然而，尚需克服技術瓶頸以生產出可用的晶片。 有關消息還指，中國政府設定的目標是在2028年前達成可商用晶片生產。這一舉措展示了中國在半導體自主與技術提升方面的雄心。 同時，股市方面，道指連跌四日，損失228點，反映市場對經濟前景持謹慎態度。金龍指數亦出現連跌五日情況，達到近一個月以來的最低水平，投資者將密切關注未來的市場動態。