ASML研究突破 可望2030年前提升晶片產量達五成

荷蘭半導體設備巨擘ASML (阿斯麥) 的研究人員據報取得重大技術突破，成功找到一種新方法，能顯著提升其關鍵晶片製造機器的光源功率。市場預期，這項創新技術有望在2030年前，將全球晶片產量推高多達五成，對全球半導體供應鏈影響深遠。 負責相關技術的專家強調，此次成果絕非短期展示的技術噱頭，而是一個成熟且高度穩定的系統。該系統不僅能持續產生高達1000瓦的功率，更能全面滿足客户在實際生產中的各項需求。此一穩定且高效能的方案，標誌著晶片製造技術邁向新里程碑。 ASML作為全球最先進的光刻機供應商，其設備在半導體產業鏈中扮演著舉足輕重的角色。包括台積電、英特爾等領先晶片製造商，均依賴ASML的高端光刻機來生產尖端製程的晶片。因此，是次光源功率的提升，預計將對未來高效能晶片的生產效率和規模，帶來革命性的影響，同時亦備受投資者關注。