ASML重申從未向中國出口EUV設備 堅決否認違反出口管制指控

荷蘭半導體設備巨擘艾司摩爾（ASML）近日發表聲明，堅決否認曾向中國出口任何極紫外光刻機（EUV）設備，或任何專為EUV設計的組件、模塊或相關設備。此舉旨在回應此前市場上，有關其最先進設備可能已流入中國，違反美國主導的出口限制的報道。 據ASML向媒體發出的電郵聲明指出，公司「從未向中國發運過EUV，也從未向中國發運過任何專門設計用於EUV的組件、模塊或設備」。此番聲明清晰劃定其在對華出口方面的界線，特別是針對作為先進半導體製造關鍵核心的EUV技術。 此前，市場消息指，美國商務部長盧特尼克（Howard Lutnick）曾表達擔憂，稱ASML的EUV設備可能已流入中國，憂慮這或已違反美國主導的出口管制政策。報道進一步提及，盧特尼克在一系列會議中曾向這家荷蘭公司的高層表達了上述顧慮，使ASML的出口合規性受到投資者關注。 ASML強調，已駁斥有關其在中國相關出口管制方面存在不合規的指控。公司表明，一直根據出口管制政策的任何變化調整業務策略，以確保完全遵守任何新的規定。此舉反映ASML對國際貿易法規的嚴謹態度，尤其是在全球半導體供應鏈競爭加劇的背景下。 荷蘭外交部亦就半導體設備出口發表聲明，稱荷蘭在半導體製造設備出口方面，依據《歐洲兩用物品條例》及補充性國家措施，遵循明確的規則和管制清單。聲明續指，所有明確屬於這些規則範圍的設備、組件和技術均需獲得許可證，並強調荷蘭政府非常嚴格地執行這一政策，且在必要時採取幹預措施。這表明荷蘭政府在關鍵技術出口問題上的嚴格立場。 鑑於當時為非工作時間，路透社在聯繫美國商務部及白宮時，未能即時獲得置評。