美國關注艾司摩爾EUV設備或流入中國 華府對半導體出口管制執行嚴密審視

美國對於荷蘭半導體設備巨擘艾司摩爾 (ASML) 最先進的極紫外光刻機 (EUV) 技術可能已流入中國深表憂慮。消息指，在近期一系列高層會談中，美國商務部長盧特尼克 (Howard Lutnick) 向ASML管理層明確表達了華府的嚴重關注，質疑ASML的尖端EUV設備或已違反美國主導的出口管制措施。ASML在全球光刻機市場佔據主導地位，其EUV技術對於生產最尖端晶片至關重要，因此華府的關注引發業界廣泛矚目。 據悉，盧特尼克在會談中直接向ASML高管表達了對該公司EUV光刻機流向的擔憂。鑑於美國在前總統特朗普第一任期內已對此類設備實施嚴格出口限制，ASML一直被禁止向中國出口EUV設備。這些先進的EUV設備是晶片製造的關鍵環節，例如台積電便是藉助EUV技術，為輝達和蘋果等全球科技巨頭生產最前沿的晶片。有分析指，華府此舉，反映其在限制中國半導體技術發展方面的決心，並嚴密審視相關出口管制的執行情況。 然而，面對美方質詢，知情人士指出，ASML已反駁了盧特尼克的説法，堅稱最先進的光刻機並未流入中國。ASML方面解釋指，EUV設備體積龐大，約相當於一輛校車，且生產數量有限，更重要的是，這些設備需要ASML員工進行持續性的維護和支援才能運作。ASML發言人在回應相關會談時重申，公司一直與各國政府保持溝通，並明確指出ASML從未向中國出口任何EUV設備。 目前，特朗普政府究竟希望從ASML獲得哪些確切訊息，以及ASML需提供何種資訊才能徹底打消美方對EUV設備是否已為中國所用的疑慮，外界仍未有明確答案。事件突顯出美中兩國在科技領域，特別是半導體產業上的激烈競爭及美國對關鍵技術外流的警惕。