中國據報成功生產自主研發DUV光刻機 料首批交付中芯國際等企業

據外電消息指，中國在自主研發晶片製造設備方面取得最新進展，已開始生產深紫外光（DUV）光刻機。DUV光刻機是晶片製造的核心設備之一，其技術長期以來主要由荷蘭供應商ASML主導，此舉標誌著中國在半導體設備國產化進程中邁出重要一步，在全球晶片供應鏈面臨挑戰之際，引起市場高度關注。 消息指出，初期DUV光刻機的產量將受到限制。預計今年約可生產5部設備，並有望於明年增至約20台。這些自主研發的光刻機，據報將於今年內交付予中國領先的晶片製造商，當中包括中芯國際(00981)、華虹半導體以及長鑫存儲等。 投資者關注，儘管這項技術突破長遠來看可能對ASML在中國市場的領先地位構成挑戰，但業界人士分析，相關系統在性能表現及可靠性方面仍存在一定差距。在實現大規模量產之前，這些設備仍需進行進一步的測試與驗證。因此，短期內荷蘭ASML在全球光刻機市場，尤其是在高端領域的優勢地位預料依然穩固。 除了DUV技術外，據悉中國亦正積極研發國產極紫外光（EUV）光刻機，但目前該項目仍處於原型機階段，距離商業化應用尚有一段距離。