美方憂ASML頂尖EUV設備流入中國 ASML堅決否認 美國會擬推新法案收緊出口管制

美國商務部近期高度關注荷蘭半導體設備巨頭ASML（美：ASML）最尖端極紫外光（EUV）光刻機恐已違規流入中國，引發美方對其出口管制誠信的嚴重質疑。市場消息指，ASML對此堅決否認，強調公司一直以來嚴格遵守國際法規及出口限制。事件不僅凸顯中美科技戰的持續緊張，亦可能對全球半導體供應鏈及美歐貿易關係帶來深遠影響。 據悉，美國商務部長Howard Lutnick在近期一系列閉門會議中，直接向ASML高層表達憂慮，懷疑該公司最頂尖的EUV光刻機可能已透過某種管道流入中國，涉嫌違反美國主導的出口限制令。EUV光刻機是晶圓代工廠如台積電（TSMC）為蘋果公司AppleInc.（美：AAPL）和英偉達Nvidia（美：NVDA）製造頂級芯片的關鍵設備。自美國前特朗普政府施壓以來，ASML從未獲準向中國出貨此類設備。 面對美方的質疑，據報ASML高層在會晤中當場駁斥，並在會後迅速進入「危機處理模式」。ASML隨後在華盛頓發布並傳閲了一份內部報告，題為《無任何跡象顯示ASMLEUV系統流入中國》，試圖證明清白。ASML發言人重申：「ASML始終與全球政府保持透明、公開的對話。我們完全理解出口管制背後的國家安全考量，並承諾嚴格遵守所有適用法規。過去市場上曾出現數次針對我們違反中國出口管制的無端傳言，皆屬不實且損害公司商譽。」發言人更堅稱：「ASML從未向中國運送過任何EUV光刻機或其專用零組件。」 然而，多位要求匿名的美國高級官員向媒體透露，美方掌握了ASML「未採取誠信原則」的證據，主要聚焦於兩點。此外，美方官員也舊事重提，批評ASML在先前DUV管制生效前「加快衝刺出貨」合法設備給中國客户的行為，質疑該公司「將短期利潤置於國家安全之上」。 EUV光刻機的短缺，無疑是華為等中國科技巨頭在AI芯片研發上面臨的最大瓶頸。彭博行業研究分析師Masahiro Wakasugi指出，美國對中國芯片製造商的擔憂，對ASML的實質銷量影響可能不大。Masahiro Wakasugi又指，中國目前愈來愈有能力利用舊世代的成熟製程設備，如DUV，製造出更先進的芯片。因此，美方的擔憂與其説是ASML違規，不如説是反映了中國本土工程技術的快速進步。即使中國取得EUV，要製造出先進芯片還需要其他美商（如Lam Research、Applied Materials）的設備支援，單靠一台光刻機無法運作。 目前特朗普政府在半導體設備的出口管制策略上，內部仍處於拉鋸狀態。投資者關注美國國會已按耐不住，於今年通過了一項跨黨派法案，旨在加強對ASML及日本東京威力科創（Tokyo Electron）的限制，要求外國企業必須承受與美國企業同等嚴苛的對華審查。該法案更進一步要求全面禁止ASML出口所有浸潤式DUV光刻機。由於ASML預計2026年仍有約20%的營收來自中國市場，若該法案強行通過，對這家荷蘭芯片巨頭將帶來嚴重的財務衝擊，也勢必讓本就緊張的美歐貿易關係更加雪上加霜。