南韓記憶體晶片巨頭SK海力士(SK hynix)日前宣佈,將斥資總計54.3萬億韓圜(約合3024.5億港元),用於興建兩座先進晶片生產設施,以滿足全球市場對動態隨機存取記憶體(DRAM)及快閃記憶體(NAND)的龐大需求,特別是人工智能(AI)領域的快速增長。 根據該集團的規劃,這兩座新建晶圓廠將分別座落於龍仁及清州。其中,龍仁「Y2」晶圓廠項目預計投資35.2萬億韓圜,而清州「M17」晶圓廠項目則將投入19.1萬億韓圜。 **龍仁Y2廠聚焦HBM生產** 集團表示,龍仁Y2晶圓廠是其在龍仁半導體集羣內規劃的四座晶圓廠中的第二座,總建築面積達約113萬平方米,建成後將主要作為DRAM生產基地。該廠房預計於明年7月正式動工,首個無塵室定於2029年6月啟用,主要將用於生產HBM等新一代DRAM產品,以支援AI應用對高頻寬記憶體的迫切需求。據悉,同集羣內的首座晶圓廠Y1項目進展順利,預期明年2月即可啟用首個無塵室。 **清州M17廠擴充快閃記憶體產能** 至於清州M17晶圓廠,其總建築面積約68萬平方米,計劃於明年2月展開建設工程,並有望在2028年12月啟用首個無塵室。該項目的投資期將持續至2031年4月,集團將按業務進度分階段推進實施。 **市場預期記憶體需求強勁** 市場分析指出,隨著人工智能技術的普及與深化,對於高性能、大容量記憶體晶片的需求呈現爆發式增長。據市場調研機構Omdia的最新預測,從去年至2030年,全球DRAM和NAND快閃記憶體市場需求年均複合增長率將達到19%。SK海力士此次大規模的投資擴產,正反映了其看好記憶體市場的長期增長潛力,並旨在鞏固其在全球半導體產業中的領先地位。此舉亦顯示全球主要半導體廠商正積極部署,以應對由AI驅動的新一輪科技浪潮。
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