【財經新聞】市場消息指,美國商務部正考慮注資1.5億美元於初創公司xLight,並已簽署不具約束力的意向書。xLight專注於開發先進的極紫外光(EUV)微影技術,此舉可能令美國政府成為其最大股東。xLight由英特爾(美:INTC)前行政總裁Pat Gelsinger擔任董事會執行主席。Gelsinger於今年3月加入該公司,負責研發旨在改良現有EUV製程的技術。 消息指,該筆資金將來自2022年《晶片與科學法案》的撥款,延續白宮近期對戰略性產業的支持力度。分析認為,美國政府的注資策略顯示對於將半導體製造鏈移回國內的決心,特別是在晶片製造極限的突破上。 據瞭解,xLight正加強其核心技術,計劃整合至全球唯一EUV光刻機生產商ASML的系統中。這一舉措預計將使其在市場上與德國Trumpf展開直接競爭。Gelsinger表示,該技術可望提升晶圓加工效率30%至40%,若獲批,首批測試晶圓預計於2028年前推出。 業界關注的是,這一技術的發展或將促使半導體行業繼續遵循「摩爾定律」的增長趨勢。Gelsinger指出,倘若成功,這將是半導體領域的一項突破性發展,或對市場產生深遠影響。
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